Intel und IBM melden Durchbruch bei 45-Nanometer-Produktion

Im Wettrennen um immer schnellere Prozessoren und immer kleinere Transistoren soll die nächste Chipgeneration in 45-Nanometer-Technologie gefertigt werden. Nach mehr als zehn Jahren Forschung ist es nun sowohl Intel als als auch IBM gelungen, die Isolationsschicht in den Transistoren zu verbessern. Intel verwendet ein Hafnium-Gemisch, um künftig noch mehr Transistoren auf einen Chip packen zu können, IBM hüllt sich bezüglich des verwendeten Stoffes derzeit noch in Schweigen. Intel sieht sich nun im Wettkampf mit dem Erzrivalen AMD wieder als eindeutiger Technologieführer. Im zweiten Halbjahr 2007 soll beim Branchenprimus die Produktion der ersten in 45-Nanometer-Chips beginnen. Die Prozessoren sollen neben Windows auch Linux und Mac OS X als Betriebssystem unterstützen.

Um das Innovationstempo des Mooreschen Gesetzes zu halten - Verdopplung der Transistoren auf einem Chip etwa alle zwei Jahre - müssen die Transistoren immer kleiner werden. Zum Vergleich: Auf der Oberfläche einer einzigen menschlichen roten Blutzelle finden etwa 400 von Intels 45-nm-Transistoren Platz. Vor gerade einmal zehn Jahren galt der 250-nm-Prozess als modernste Technologie. Die Transistoren waren damals etwa fünfeinhalb Mal so groß und beanspruchten die 30-fache Fläche der heute von Intel vorgestellten Technologie.